你的位置:首頁 > 電路保護(hù) > 正文

明導(dǎo):三維集成電路系統(tǒng)的電網(wǎng)分析

發(fā)布時間:2013-12-16 來源:Mentor Graphics 責(zé)任編輯:xueqi

【導(dǎo)讀】現(xiàn)有的電網(wǎng)分析工具需要按照2.5維和三維設(shè)計進(jìn)行拓展和增強(qiáng),從而滿足新的需求和使用模式。本文以系統(tǒng)為中心的電網(wǎng)分析、使用模型分析、設(shè)計流程中的電網(wǎng)分析以及電網(wǎng)分析輸出等,介紹了一些必要的改進(jìn)。
 
Mentor Graphics近日發(fā)布一份題為《三維集成電路系統(tǒng)的電網(wǎng)分析》的研究報告。中文版的報告全文可在 Mentor Graphics 的官方網(wǎng)站閱讀和下載:[ http://mentorg.com.cn/aboutus/view.php?id=229 ]。 
 
 
圖1:作者--明導(dǎo) Calibre 設(shè)計解決方案新市場與新興市場產(chǎn)品營銷經(jīng)理 Christen Decoin 
 
作者簡介
 
Christen Decoin 是明導(dǎo) Calibre 設(shè)計解決方案新市場與新興市場產(chǎn)品營銷經(jīng)理,負(fù)責(zé)推動早期新市場分析、產(chǎn)品定義以及產(chǎn)品推出。Christen 先前曾負(fù)責(zé)明導(dǎo)參與專注于寄生電感、三維集成電路以及高頻提取的 DeCADE Nano2013 計劃。加盟明導(dǎo)之前,Christen 曾擔(dān)任 Sagantec 應(yīng)用工程總監(jiān)以及 Brion Technologies 的可制造性設(shè)計(DFM)、光學(xué)臨近效應(yīng)修正(OPC)和光學(xué)臨近效應(yīng)修正(OPC)驗證的高級產(chǎn)品營銷經(jīng)理。 
 
在高級節(jié)點,有效的電網(wǎng)分析是確保小尺寸連接器可以處理電流需求,而不會造成潛在失效模式或信號完整性問題的關(guān)鍵?,F(xiàn)有的電網(wǎng)分析工具需要按照2.5維和三維設(shè)計進(jìn)行拓展和增強(qiáng),從而滿足新的需求和使用模式。本文介紹了一些必要的改進(jìn)。 
 
以系統(tǒng)為中心的電網(wǎng)分析
 
在三維集成電路系統(tǒng)中,幾個晶粒共享相同的網(wǎng)絡(luò)供電。電網(wǎng)分析 (PGA) 工具必須同時分析所有晶粒,因為一個晶粒的電壓降可能直接與另一個相關(guān)聯(lián)。此外,電網(wǎng)分析解決方案必須支持各種2.5維/三維晶粒配置 -- 包括布局、定向和堆疊順序 -- 以及晶粒內(nèi)部連接器模型。 
 
一個系統(tǒng)中的每個晶粒可能已經(jīng)按照其應(yīng)用和需求采用了不同的工藝節(jié)點。一個系統(tǒng)可能包含 40nm 和 28nm 設(shè)計的晶粒以及 65nm 設(shè)計的基板夾層(interposer)。增量技術(shù)文件定義和校準(zhǔn)在這個使用案例中發(fā)揮了重要作用,因為終端用戶只需校準(zhǔn)與2.5維/三維整合相關(guān)的新堆疊定義部分,而不用重新校準(zhǔn)整個堆疊。 
 
2.5維/三維流程的電網(wǎng)分析工具還必須考慮垂直整合所需的更多“對象”,如背面凸塊(microbumps)和背面金屬層(圖1)。三維結(jié)構(gòu)中的背面金屬層呈45度角,而不是正面金屬層常用的90度,這將對功率分析模型產(chǎn)生影響。對于全三維系統(tǒng),電網(wǎng)分析工具需要給正面和背面金屬之間的硅穿孔(TSV)定義準(zhǔn)確的模型,而對于2.5維系統(tǒng),電網(wǎng)分析工具必須能夠模擬只包含金屬(下面沒有器件)的鈍化基板夾層(interposer)。 
 
使用模型
 
考慮到2.5維和三維系統(tǒng)的常規(guī)尺寸以及需要整合第三方晶粒,電網(wǎng)分析解決方案必須能夠以三種不同的模式運行。
 
●基于功率模型的電網(wǎng)分析模式 -- 在基于功率模型的模式中,每個晶粒表現(xiàn)為緊湊的功率模型,電網(wǎng)分析工具使用這些模型及其連接分析整個2.5維/三維集成電路系統(tǒng)。這種模式運行相當(dāng)快,提供了高水平的系統(tǒng)電網(wǎng)分析,但是它僅限于檢測晶粒內(nèi)連接問題。由于功率模型是為了特定技術(shù)節(jié)點角而創(chuàng)建,一個電網(wǎng)分析解決方案必須能夠處理不同條件下的不同緊湊功率模型。例如,1.2V 條件下90nm 晶粒模型和1.0V 條件下 65nm 的晶粒模型組合在一起的情況。 
 
●全2.5維/三維電網(wǎng)分析模式 -- 終端用戶希望分析特定多晶粒網(wǎng)的電壓降,但是算起來代價十分高昂。為了支持這個模式,電網(wǎng)分析工具的容量和周轉(zhuǎn)時間必須比現(xiàn)有工具好幾個數(shù)量級。 
 
●混合電網(wǎng)分析模式 -- 混合模式受到分析第三方晶粒整合需求的推動。它支持一系列混合的緊湊型功率模型和晶粒,在這種情況下第三方晶粒僅表現(xiàn)為緊湊模型,用于整合進(jìn)系統(tǒng)電網(wǎng)分析。 
 
 
圖2:三維集成電路堆棧的電網(wǎng)分析需要三維整合對象模型,如背面凸點和金屬層 
 
設(shè)計流程中的電網(wǎng)分析
 
為了盡早、高效地檢測、診斷和糾正電網(wǎng)問題,設(shè)計人員應(yīng)該在布圖規(guī)劃、時鐘樹綜合后以及電路實現(xiàn)后階段進(jìn)行電網(wǎng)分析。為了提供有意義的分析,必須考慮到系統(tǒng)在既定晶粒(如其它晶粒、基板夾層(interposer)、三維集成電路整合對象等等)上的效果,用戶應(yīng)該能夠輕松分析系統(tǒng)相互作用。一個既定堆疊內(nèi)的多幀功能和晶粒間瀏覽使用戶能夠高效地審查、診斷和排除電網(wǎng)問題。盡管這些功能需要工具擁有明顯較大的數(shù)據(jù)容量和更快的響應(yīng)時間,但是它們對于調(diào)試動態(tài)的電網(wǎng)分析運行特別重要。 
 
電網(wǎng)分析輸出
 
一個電網(wǎng)分析解決方案產(chǎn)生一個全系統(tǒng)功率模型,可用于包裝/電路板電源完整性分析。進(jìn)行部分模型創(chuàng)建的能力對于支持第三方 IP 整合來說也非常重要。例如,如果一個供應(yīng)商分析一個基板夾層(interposer)上的一個將由客戶連接至另一個晶粒的晶粒,那么這個供應(yīng)商需要為第一個晶粒提供功率模型,還要為基板夾層(interposer)提供寄生網(wǎng)表。 
 
結(jié)論
 
當(dāng)今的電網(wǎng)分析工具提供的功能遠(yuǎn)遠(yuǎn)無法滿足2.5維/三維集成電路的電網(wǎng)分析需要。功率是2.5維/三維集成電路物理實現(xiàn)中最大的挑戰(zhàn)之一,由此產(chǎn)生的問題無法僅在寄存器傳輸級 (RTL) 得到解決。為了使半導(dǎo)體行業(yè)完全支持除2.5維以外的三維整合、存儲器堆疊以及廣泛的 IO 應(yīng)用,電網(wǎng)分析解決方案必須解決本文討論的需求,尤其是如果目標(biāo)是為擁有具有強(qiáng)大的多晶粒電網(wǎng)布圖規(guī)劃能力的真正三維集成電路整合流程。 
要采購工具么,點這里了解一下價格!
特別推薦
技術(shù)文章更多>>
技術(shù)白皮書下載更多>>
熱門搜索
?

關(guān)閉

?

關(guān)閉